集成电路布图设计权

第一节　集成电路布图设计权

一、集成电路布图设计概述

(一)集成电路概念和特征

1.集成电路的概念

集成电路，是指以蚀刻工艺技术将特定模型置于两层以上金属的绝缘物或半导体的涂层之上，并使其发挥电子电路技术功能的电子产品。

集成电路按照1989年世界知识产权组织《关于集成电路的知识产权条约》(以下简称《华盛顿条约》)中的解释，它是指“一种产品，它的最终形态或中间形态，是将多个元件，其中至少有一个是有源元件，和部分或全部互连线路集成在一块材料之中或基片之上，以执行某种电子功能”。我国自2001年10月1日起施行的《集成电路布图设计保护条例》将集成电路定义为：“集成电路，是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品。”

集成电路属于微电子技术的范畴，它具有体积小、速度快、能耗低等特点，被广泛应用于各种电子产品中，是现代电子信息的基础。通俗地说，集成电路即半导体芯片，是以蚀刻技术将若干电子元件及它们之间的连线集中地制作在金属绝缘物或半导体图层上，使它们成为紧密联系的整体，并发挥电子电路技术功能的电子产品。^[2]

2.集成电路的特征

集成电路的特征主要包括：

(1)技术成果的综合性。集成电路是一种综合技术成果，它包括布图设计和工艺技术。迄今为止，各国在以法律手段保护集成电路时，主要保护的是体现集成电路设计原理与技术的反映各层材料之间各元件三维配置的图像。

(2)技术成果的原创性。集成电路的技术成果必须具有原创性，才能受到法律的保护。如果集成电路的技术成果只是对他人的布图设计进行仿制或简单修改，或属于在集成电路中经常应用的显而易见的常规设计，则不能受到法律的保护。

(二)布图设计的概念

布图设计，是指附着于各种载体上的电子元件和连接这些元件的连线的有关布图设计。在美国称之为“掩膜作品”，欧洲国家称之为“半导体产品拓扑图”，日本及我国称之为“布图设计”。

《华盛顿条约》以及我国《集成电路布图设计保护条例》都将集成电路布图设计定义为：“集成电路布图设计(以下简称布图设计)，是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。”

尽管布图设计是无形的，但可以通过掩膜板、芯片、磁记录等方式表现出来。在集成电路产品的开发中，布图设计的完成是关键。据统计，布图设计的开发成本一般占集成电路开发总成本的50%以上。^[3]集成电路的设计和制造是一项十分艰巨的技术工作，需要大量的资金和智力的投入。由于集成电路能够带来巨大的经济利益，因此被非法复制的现象也日趋普遍，极大地损害了原开发者的合法权益，影响了集成电路新产品的研发。

(三)集成电路布图设计的立法

1958年世界上第一块集成电路在美国研制成功后，集成电路技术获得了飞快的发展。1978年集成电路进入超大规模集成阶段，在不足1平方厘米的硅片上集成电路的元件达14万个。1988年集成电路进入更大规模集成阶段，1平方厘米左右的硅片上集成电路的元件多达3500万个。到了1997年，一个芯片上可集成几亿个元件，最细线宽0.2微米～0.25微米。^[4]

集成电路布图设计作为一种无形产品，兼具著作权和专利权客体的某些属性，但在许多方面有其自身的特点，传统知识产权对集成电路布图设计无法给予有效保护，这就要求创立一种新型法律形式对其实施专门的保护。这一点在国际上已经得到越来越多国家的接受并付诸立法实践。

美国国会于1984年11月8日通过了世界上第一部保护集成电路布图设计的专门立法——《半导体芯片保护法》，开创了以专门法律保护集成电路布图设计的先河。随后，日本于1985年5月31日通过了《半导体集成电路的电路布局法》，欧共体于1986年12月16日通过了《关于半导体产品布图设计法律保护的理事会指令》。瑞典、英国、德国、法国、意大利、俄罗斯、韩国等也相继制定了自己的集成电路布图设计保护法。

在国际上，1989年5月26日，世界知识产权组织在华盛顿召开的关于集成电路知识产权的外交会议上通过了《关于集成电路的知识产权条约》(简称《华盛顿条约》)。我国也已在《华盛顿条约》和《与贸易有关的知识产权协定》上签字，承担着保护集成电路布图设计的国际义务。2001年3月28日我国通过了《集成电路布图设计保护条例》，并制定了《集成电路布图设计保护条例实施细则》。

二、我国对集成电路布图设计的保护

(一)集成电路布图设计权的主体及客体

1.集成电路布图设计权的主体

集成电路布图设计权的主体，是指对布图设计享有权利和承担义务的自然人或组织。按照《集成电路布图设计保护条例》的规定，布图设计权的主体范围包括中国的自然人、法人或其他组织和外国人。但是，外国人成为我国布图设计权的主体的前提是，其创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用，或者其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约。

2.集成电路布图设计权的客体

集成电路布图设计权的客体，是指符合法定保护条件的集成电路布图设计。受保护的布图设计应当具有独创性，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。受保护的由常规设计组成的布图设计，其组合作为整体应当符合独创性和非常规设计条件的要求。因此，集成电路布图设计既具有知识产权客体的一般特征，也具有其独特的特征。

(1)布图设计具有无形性。布图设计是集成电路中所有元器件的配置方式，这种“配置方式”本身是抽象、无形的，它没有具体的形体，可以用不同载体表现。如以编码方式存在于磁盘、磁带中。

(2)布图设计具有可复制性。当载体为磁盘、磁带时，可以通过拷贝的方法复制布图设计。当载体为掩膜板时，布图设计以图形方式存在，这时可以通过对模板的翻拍复制布图设计。

(二)集成电路布图设计权的归属

除《集成电路布图设计保护条例》另有规定外，布图设计专有权属于布图设计创作者。由法人或者其他组织主持，依据法人或者其他组织的意志而创作，并由法人或者其他组织承担责任的布图设计，该法人或者其他组织是创作者。由自然人创作的布图设计，该自然人是创作者。

两个以上自然人、法人或者其他组织合作创作的布图设计，其专有权的归属由合作者约定；未作约定或者约定不明的，其专有权由合作者共同享有。

受委托创作的布图设计，其专有权的归属由委托人和受托人双方约定；未作约定或者约定不明的，其专有权由受托人享有。

(三)集成电路布图设计权的取得

集成电路布图设计专有权因登记而取得。我国《集成电路布图设计保护条例》第8条和第17条规定：“布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生。未经登记的布图设计不受本条例保护。”“布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内，未向国务院知识产权行政部门提出登记申请的，国务院知识产权行政部门不再予以登记。”

中国自然人、法人或其他组织创作的布图设计的专用权的取得只需以登记为要见。外国人创作的布图设计除了要在中国有关部门登记外，还需要首先在中国境内投入商业利用，方可取得布图设计专有权。外国人创作的布图设计，其创作者所属国与中国签订有关布图设计保护协议或与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的，由于受到国民待遇原则的保护，布图设计专有权的取得条件与中国公民、法人或其他组织相同，不受是否首先在中国境内进行商业利用的限制。

(四)集成电路布图设计权的内容

集成电路布图设计权的内容主要包括复制权和商业利用权。

1.复制权

复制权，是指对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制的权利。

应当注意的是，这里所讲的复制与版权法中的复制的含义是不同的。对布图设计的复制是通过以下步骤实现的：首先，将含有布图设计的半导体芯片通过化学方法把半导体材料溶解，使体现在上面的布图设计暴露出来；其次，用特制的照相机将各个涂层上的布图设计拍摄下来进行放大处理，再将照片输入计算机中进行处理，然后制成布图设计的掩膜板；最后，按照集成电路的制作过程将版图体现在集成电路上，成为布图设计。

2.商业利用权

商业利用权，是指为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的行为。商业利用权就是将上述物品投入商业利用的权利。

(五)集成电路布图设计权的限制

1.合理使用

合理使用，是指为个人目的或者单纯为评价、分析、研究、教学等目的而复制受保护的布图设计的，可以不经布图设计权利人许可，不向其支付报酬而使用。

2.反向工程

反向工程，是指在对他人的布图设计进行评价、分析的基础上，创作出具有独创性布图设计的研究。由于反向工程有利于新产品的开发，促进技术进步，各国法律大多承认其合法性，行为人可以不经布图设计权利人许可，不向其支付报酬。

3.独立创作

独立创作，是指对自己独立创作的与他人相同的布图设计工作。创作者对自己独立创作的作品进行复制或者将其投入商业利用的，可以不经布图设计权利人许可，不向其支付报酬。

4.权利穷竭

权利穷竭，也称权利穷尽或称权利用尽，是指受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品，由布图设计权利人或者经其许可投放市场后，其权利已经实现，他人再次进行商业利用的，可以不经布图设计权利人许可，并不向其支付报酬。

5.善意的商业利用

善意的商业利用，是指行为人在获得含有受保护的布图设计的集成电路或者含有该集成电路时，不知道也没有合理理由应当知道其中含有非法复制的布图设计，而将其投入商业利用的，不视为侵权。前述的行为人得到其中含有非法复制的布图设计的明确通知后，可以继续将现有的存货或者此前的订货投入商业利用，但应当向布图设计权利人支付合理的报酬。

6.强制许可

强制许可，或称非自愿许可，是指在不经权利人同意的情况下由有关主管部门直接发放的使用许可。根据我国《集成电路布图设计保护条例》的规定，在下列情况下可以发放强制许可：

(1)紧急状态之强制许可。在国家出现紧急状态或者非常情况时，或者为了公共利益的目的，或者经人民法院、不正当竞争行为监督检查部门依法认定布图设计权利人有不正当竞争行为而需要给予补救时，国务院知识产权行政部门可以给予使用其布图设计的强制许可。

(2)公共目的之强制许可。国务院知识产权行政部门作出给予使用布图设计强制许可的决定，应当及时通知布图设计权利人。给予使用布图设计强制许可的决定，应当根据强制许可的理由，规定使用的范围和时间，其范围应当限于为公共目的非商业性使用，或者限于经人民法院、不正当竞争行为监督检查部门依法认定布图设计权利人有不正当竞争行为而需要给予的补救。强制许可的理由消除并不再发生时，国务院知识产权行政部门应当根据布图设计权利人的请求，经审查后作出终止使用布图设计强制许可的决定。

(3)获得强制许可后的限制。取得使用布图设计强制许可的自然人、法人或者其他组织不享有独占的使用权，并且无权允许他人使用。

(六)集成电路布图设计权的保护期限

根据我国《集成电路布图设计保护条例》第12条规定：“布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受本条例保护”。

(七)侵犯集成电路布图设计权的行为及法律责任

1.侵权行为的表现

根据《集成电路布图设计保护条例》的规定，侵犯集成电路布图设计权的行为主要有以下两种：

(1)未经布图设计权利人许可，复制受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分的。

(2)未经布图设计权利人许可，为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的。

2.法律责任

(1)民事责任。未经布图设计权利人许可，使用其布图设计，即侵犯其布图设计专有权，引起纠纷的，由当事人协商解决；不愿协商或者协商不成的，布图设计权利人或者利害关系人可以向人民法院起诉，由人民法院依法作出裁判，判令侵权人停止侵害、赔偿损失。侵犯布图设计专有权的赔偿数额，为侵权人所获得的利益或者被侵权人所受到的损失，包括被侵权人为制止侵权行为所支付的合理开支。

布图设计权利人或者利害关系人有证据证明他人正在实施或者即将实施侵犯其专有权的行为，如不及时制止将会使其合法权益受到难以弥补的损害的，可以在起诉前依法向人民法院申请采取责令停止有关行为和财产保全的措施。

【案例16-1】

集成电路布图设计侵权纠纷案^[5]

2004年2月16日，原告某公司指控被告某微电子股份有限公司集成电路布图设计侵权纠纷一案，向浙江省杭州市中级人民法院提起诉讼，杭州市中级人民法院依法组成合议庭进行审理。2005年9月1日，原告以双方已就争议事项达成庭外和解为由，向杭州市中级人民法院申请撤回起诉。杭州市中级人民法院认为，原告的申请符合法律规定，准许其撤回起诉。

点评：因侵犯布图设计专有权而引起的纠纷，布图设计权利人或者利害关系人可以向人民法院起诉，在宣判前，原被告达成和解协议而申请撤诉的，经人民法院裁定准许后，原告可以撤诉。

(2)行政责任。对于布图设计的侵权行为，布图设计权利人或者利害关系人除了可以向人民法院起诉外，也可以请求国务院知识产权行政部门处理。国务院知识产权行政部门处理时，认定侵权行为成立的，可以责令侵权人立即停止侵权行为，没收、销毁侵权产品或者物品。

当事人对行政处罚不服的，可以自收到处理通知之日起15日内依照《中华人民共和国行政诉讼法》向人民法院起诉；侵权人期满不起诉又不停止侵权行为的，国务院知识产权行政部门可以请求人民法院强制执行。