【摘要】：阵列工艺的材料分为直接用材、间接用材和辅助用材3大类。阵列工艺主要直接材料有玻璃基板和靶材，其中玻璃基板是核心材料，如图3.4所示。玻璃基板的不断扩大直接推动了TFT-LCD产业规模的发展。TFT-LCD基板材料主要由美国的康宁公司、日本的旭硝子、板硝子、日本电器硝子等几家公司垄断。2007年国内安阳玻璃厂和彩虹集团开始投入制造TFT-LCD玻璃基板的生产线。
3.2 阵列工艺的主要原材料
阵列工艺的材料分为直接用材、间接用材（特药和特气）和辅助用材3大类。阵列工艺主要直接材料有玻璃基板和靶材，其中玻璃基板是核心材料，如图3.4所示。LCD玻璃基板可分为碱玻璃及无碱玻璃两大类。碱玻璃包括钠玻璃及中性硅酸硼玻璃两种，多应用于TN及STN LCD产品，主要生产厂商有日本板硝子（NHT）、旭硝子（Asahi）及中央硝子（Central Glass）等，以浮式法制程生产为主；无碱玻璃则以无碱硅酸铝玻璃（Alumino Silicate glass，成分为SiO2，Al2O3，B2O3及BaO等）为主，其碱金属总含量在1%以下，主要用于TFT-LCD产品，主要厂商是美国康宁（Corning）公司，以溢流熔融法制程生产为主。玻璃基板的不断扩大直接推动了TFT-LCD产业规模的发展。TFT-LCD基板材料主要由美国的康宁公司、日本的旭硝子、板硝子、日本电器硝子（NEG）等几家公司垄断。2007年国内安阳玻璃厂和彩虹集团开始投入制造TFT-LCD玻璃基板的生产线。
图3.4 阵列用玻璃基板
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