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射线与物质相互作用

时间:2023-02-14 理论教育 版权反馈
【摘要】:照射到物质上的X射线,除一部分可能沿原入射线束方向透过物质继续向前传播外,其余部分则在与物质相互作用,在复杂的物理过程中被衰减。X射线与物质的相互作用形式,可分为散射和真吸收两大类。X射线光子与原子中电子相互作用,会产生光电效应以及俄歇效应,同时伴随着热效应。当X射线透过物质时,与物质相互作用而产生散射与真吸收,强度将被衰减。

照射到物质上的X射线,除一部分可能沿原入射线束方向透过物质继续向前传播外,其余部分则在与物质相互作用,在复杂的物理过程中被衰减。X射线与物质的相互作用形式,可分为散射和真吸收两大类。

7.3.1 X射线散射

沿着一定方向运动的X射线光子流与物质中电子相互碰撞后,光子流向周围弹射,从而偏离了原来的入射方向,这就是X射线的散射现象。有两种类型的X射线散射,即相关散射和非相关散射,相关散射波长与入射线波长相同即能量未发生变化,而非相关散射波长则大于入射线波长,即能量降低。

1)相干散射

X射线光子与受原子核束缚得很紧的电子(如原子内层电子)相碰撞而发生弹射,光子的方向发生改变,但其能量几乎没有损失,于是产生了波长不变的散射线。汤姆逊曾用经典电动力学理论,对相干散射做过解释。他认为X射线是一种电磁波,原子中电子在入射X射线电场力的作用下产生与入射波频率相同的受迫振动,于是加速振动的电子便以自身为中心,向四周辐射新的电磁波,其波长与入射波相同,并且彼此间有确定的周相关系。晶体中有规则排列的原子,在入射X射线的作用下都会产生这种散射,在空间形成了满足相互干涉条件的多元波,故称这种散射为相干散射,也称为经典散射或汤姆逊散射。在后面介绍X射线衍射强度理论中,还会对相干散射进行必要的讨论。

在相干散射的过程中,X射线主要表现为波动性质,这是产生晶体衍射的物理学基础。X射线衍射分析,利用的都是相干散射X射线的信息。

2)非相干散射

当X射线光子与原子中受束缚力弱的电子(如原子中的外层电子)发生碰撞时,电子被撞离原子并带走光子的一部分能量而成为反冲电子。由于损失能量而波长变长的光子,也被撞偏了一定角度2θ,如图7-7所示。

对于图7-7中光子与电子所组成的体系,散射前后体系的能量和动量守恒,由此可以推导出散射X射线的波长增大值。

Δλ=λ′-λ=0.00243(1-cos2θ) (7-11)

式中,λ′和λ分别为散射线和入射线的波长,单位为nm。

上述散射效应是由康普顿和我国物理学家吴有训首先发现的,故称之为康-吴效应,这种散射称为康普顿散射或量子散射。各原子产生的X射线散射波,散布于空间各个方向,不仅波长互不相同,并且这些散射波之间不存在确定的周相关系,因此它们之间互相不干涉,所以也称这类散射为非相干散射。

图7-7 X射线非相关散射

非相干散射不能在晶体中参与衍射,只会在衍射图像上形成强度随sinθ/λ增加而增大的连续背底,从而给衍射分析工作带来不利的影响。入射X射线波长愈短,被照物质元素愈轻,则康-吴效应愈显著。

7.3.2 X射线真吸收

X射线光子与原子中电子相互作用,会产生光电效应以及俄歇效应,同时伴随着热效应。由于这些效应而消耗的入射X射线能量,通称为物质对入射X射线的真吸收。

1)光电效应与荧光辐射

当入射X射线光量子的能量足够大时,可以将原子内层电子击出,从而产生光电效应,被击出的电子称为光电子。原子被击出内层电子后,处于激发状态,随之将发生外层电子向内层跃迁的过程,同时辐射出波长严格一定的特征X射线。为了区别于X光管中电子击靶时产生的特征辐射,称由X射线激发产生的特征辐射为二次特征辐射。二次特征辐射本质上属于光致发光的荧光现象,故也称为荧光辐射。

欲激发原子产生K,L及M等线系的荧光辐射,入射X射线光量子的能量必须大于或至少等于从原子中击出一个K,L及M层电子所需做的功WK,WL及WM。例如

WK=hνK=hc/λK(7-12)

式中,νK及λK为激发K系荧光辐射所需要的入射线频率及波长之临界值。

产生光电效应时,入射X射线光子的能量波被消耗掉,转化为光电子的逸出功及其所携带的动能。因此,一旦产生X射线荧光辐射,入射X射线的能量必定被大量吸收,所以λK, λL及λM也称为被照射物质因产生荧光辐射而大量吸收入射X射线的吸收限。激发不同的元素,会产生不同谱线的荧光辐射,所需的临界能量条件是不同的,所以它们的吸收限值也不相同。原子序数愈大,同名吸收限的波长值愈短。同样,从激发荧光辐射的能量条件中,我们还可得知,荧光辐射光量子的能量,一定小于激发它产生的入射X射线光量子的能量,或说荧光X射线的波长一定大于入射X射线的波长。

在X射线衍射分析中,荧光辐射是有害的,因为它增加了衍射花样的背底。但在元素分析过程中,它又是X射线荧光光谱分析的基础。

2)俄歇效应

图7-8 俄歇效应

入射X光量子将原子中K层电子击出后,发生光电效应。然后,L层电子向K层跃迁,所释放的能量(EK-EL)有两种转换方式,一种方式是转换为荧光X射线,另一种则是被其他L层电子所吸收,L层电子吸收能量(EK-EL)后受激发,逃逸出原子而成为自由电子,这实际是一个K层空位被两个L层空位所取代的过程,称之为俄歇(Auger)效应,逸出的自由电子就是俄歇电子,如图7-8所示。

俄歇电子能量主要取决于原子具有一个K层空位的初始能态与L层两个空位的终止能态之差ΔE=(EK-2EL),即能量值是特定的,与入射X射线波长无关,仅与产生俄歇效应的物质元素种类有关。实验表明,轻元素产生俄歇电子的概率要比产生荧光X射线的概率大,所以轻元素的俄歇效应比重元素强烈。俄歇电子能量较低,一般只有几百电子伏,只有表面几层原子所产生的俄歇电子才能逃逸出物质表面。

由于俄歇电子可带来物质的表层信息,按此原理而研制的俄歇电子显微镜已成为表面分析的重要工具之一。

3)热效应

当X射线照射到物质上时,可导致电子运动速度或原子振动速度加快,部分入射X射线能量将转变为热能,从而产生热效应。

7.3.3 X射线衰减规律

当X射线透过物质时,与物质相互作用而产生散射与真吸收,强度将被衰减。X射线强度衰减主要是由真吸收所造成的(很轻元素除外),而散射只占很小一部分。在研究X射线的衰减规律时,一般都忽略散射部分的影响。

7.3.3.1 衰减规律与线吸收系数

实验规律表明,当一束单色X射线透过一层均匀物质时,其强度将随穿透深度的增加而按指数规律减弱,即

式中,I0为入射束强度,I为透射束强度,t为物质厚度(单位cm),I/I0为穿透系数或透射因数,μl为线吸收系数(单位cm-1)。

μl表征沿穿越方向单位长度X射线强度衰减的程度,实际是单位时间内单位体积(单位面积×单位长度)物质对X射线能量的吸收,不仅与X射线波长有关,而且与物质的种类有关。

7.3.3.2 质量吸收系数

质量吸收系数定义为μml/ρ,其中ρ为吸收物质的密度,这样式(7-13)可变为

质量吸收系数μm单位为cm2·g-1,表示单位重量物质对X射线的吸收程度。对波长一定的X射线来讲,某物质的μm是一个定值。

1)复杂物质的质量吸收系数

对于非单质元素组成的复杂物质,例如固溶体、化合物或混合物的质量吸收数μm,可以通过各元素的吸收系数进行计算。考虑到物质对X射线的吸收是通过单个原子进行的,因此复杂物质的吸收等于组成该物质各元素对X射线的吸收总和。如果复杂物质共由n种元素组成,其中,w2,w3,…,wn为所含各元素的重量百分数,而μm1,μm2,μm3,…,μmn为相应元素质量吸收系数,则这个复杂物质的质量吸收系数为

因此,在处理复杂物质的X射线吸收问题时,利用质量吸收系数要比线吸收系数方便。

2)连续谱的质量吸收系数

实验证明,连续X射线穿过物质时的质量吸收系数,相当于一个称为有效波长X射线所对应的质量吸收系数。有效波长λe与连续谱短波限λ0的关系为

λe=1.35λ0(7-16)

3)质量吸收系数与波长λ和原子序数Z的关系

一般地说,当吸收物质一定时,X射线的波长愈长愈容易被吸收;当波长一定时,吸收体的原子序数愈高,X射线被吸收得愈多。实验表明,质量吸收系数μm与波长λ、原子序数Z以及某常数K之间的关系为

μm≈Kλ3Z3(7-17)

图7-9为金属铅的μm与λ关系曲线,图中整个曲线并非随λ值减小而单调下降。当波长减小到某几个值时μm值骤增,于是若干个跳跃台阶将曲线分割为若干段。每段曲线连续变化满足式(7-17),各段之间仅K值有所不同。这几个波长的入射线会被强烈吸收使μm值突增,主要与X射线的荧光辐射有关。由于对应的几个波长的X射线光量子能量刚好等于或略大于击出原子中某内层(如K,L,K等)电子的结合能,光子的能量因大量击出内层电子而被消耗,于是μm值突然增大。这些吸收突增处的波长,就是物质因被激发荧光辐射而大量吸收X射线的吸收限,这是吸收元素的特征量,不随实验条件而变,所有元素的μm与λ关系曲线都类似,但吸收突增的波长位置即吸收限的位置不同。

图7-9 铅的μm与λ之间的关系曲线

7.3.4 X射线吸收效应的应用

7.3.4.1 吸收限的应用

1)根据试样化学成分选择靶材

在进行晶体X射线衍射结构分析时,要求入射X射线尽可能减少激发试样荧光辐射,以降低衍射背底,使衍射图像或曲线清晰。为此,根据图7-9所示吸收限的启示,最好是入射线的波长略长于试样λK或者比其短得多。换言之,是要求所选X射线管靶材的原子序数比试样原子序数稍小或者大许多,这样,X射线管辐射出的K系谱线波长就会满足上述要求。

实践证明,根据试样化学成分选择靶材的原则是:Z≤Z+1或Z>>Z。如果试样中含有多种元素,应在含量较多的几种元素中以原子序数最轻的元素来选择靶材。必须指出,上述选择靶材的原则仅从减少试样荧光辐射的方面考虑。在实际中,靶材选择还要顾及其他方面,这个问题将在其他章节中进行必要的介绍。

2)滤片选择

K系特征谱线包括Kα,Kβ两条线,它们将在晶体衍射中产生两套花样或衍射峰,使分析工作复杂化,为此,希望能从K系谱线中滤去Kβ线,可选择一种合适的材料,使其吸收限λK刚好位于Kα与Kβ波长之间。将此材料制成薄片(滤波片),置于入射线束或衍射线束光路中,滤片将强烈吸收Kβ线,而对Kα线吸收很少,这样就可得到基本上是单色的Kα辐射。图7-10示出铜靶辐射谱线通过镍滤波片前后的比较,虚线为镍的质量吸收系数曲线。

图7-10 铜辐射通过镍滤波片前(a)后(b)的强度比较(虚线表示镍的质量吸收系数)

表7-1给出了常见靶材K系特征X射线波长以及相关的数据。表中可见,不同靶材需要选择不同类型的滤波片,选择原则是滤波片原子序数应比阳极靶材原子序数小1或2,具体是当靶材原子序数Z<40时,滤波片原子序数Z=Z-1,而当Z>40时,则Z=Z-2。

表7-1 常用靶材K系特征X射线波长及相关数据

7.3.4.2 薄膜厚度测定

图7-11(a)中基片表面无薄膜材料,一束X射线以α角入射到基片,然后以β角反射,当α=β时即为对称反射。这里所说的反射实际是X射线衍射,将在后面章节中详细介绍。图7-11(b)中基片表面有厚度为t的薄膜,射线仍以α角入射到表面且穿透薄膜后到达基片,然后仍以β角反射并再次穿透薄膜。不难看出,图7-11(b)中入射线经历了AO=t/sinα路程薄膜的吸收,反射线则经历了OB=t/sinβ路程薄膜的吸收。根据X射线的吸收原理,式(7-13)可以证明,无薄膜基片的反射强度I与有薄膜基片的反射强度It之关系为

式中,μl为薄膜的线吸收系数。由于μl,α及β是已知的,I及It能够通过实验测量获得,利用该公式即可计算出薄膜的厚度t值。

图7-11 薄膜测厚的原理

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