【摘要】：1．在操作台上输入患者信息或从RIS导出患者信息，进入足正位摄影模板程序。选用适当kV、mAs。一般选择45kV，3mAs。
（一）摄影前准备
按常规进行摄影前准备。
（二）患者信息及摄影条件
1．在操作台上输入患者信息或从RIS导出患者信息，进入足正位摄影模板程序。选用适当kV、mAs。一般选择45kV，3mAs。
2．使用滤线器，滤线栅比值不小于10∶1，栅密度＞40LP／cm，栅焦距F0＝100cm。
3．摄影距离为100cm。
4．不用AEC。
（三）投照野及体位设计
1．患者仰卧或坐于摄影台上，被检侧膝关节弯曲，足底部紧贴平板探测器。
2．平板探测器上缘包括足趾，下缘包括跗骨。第3跖骨中点置于平板探测器中心。
3．中心线经第3跖骨中点垂直射入平板探测器。
4．若重点观察诸跗骨，中心线可向足跟侧倾斜10°～15°。
（四）曝光、图像处理及传送
按常规进行投照曝光。对获得的影像进行必要的后处理、图像发送或打印照片。
（五）图像的质量要求
1．显示全部趾骨、跖骨和距骨前面的跗骨（包括舟骨、骰骨和第1．2．3楔骨）的正位影像。
2．距骨到趾骨远端密度适当，骨纹理清晰可见。
3．舟距关节与骰跟间隙清晰可见。
（六）临床应用
足部诸骨及软组织外伤、关节脱位、感染、肿瘤、先天性畸形、关节病变、骨骼生长障碍等疾患。
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